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日本Otsuka大塚nanoSAQLA納米粒子徑測試
產(chǎn)品簡介:

日本Otsuka大塚nanoSAQLA納米粒子徑測試-成都藤田科技提供
MINUK可評價(jià)nm級的透明的異物?缺陷,一次拍照即可瞬時(shí)獲得深度方向的信息,可非破壞?非接觸?非侵入的進(jìn)行測量。且無需對焦,可在任意的面進(jìn)行高速掃描,輕松決定測量位置。

產(chǎn)品型號:

更新時(shí)間:2025-02-21

廠商性質(zhì):代理商

訪問量:175

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產(chǎn)品介紹

日本Otsuka大塚nanoSAQLA納米粒子徑測試-成都藤田科技提供

Smart膜厚儀 vs OPTM顯微分光膜厚儀——革新光學(xué)測量的雙引擎

核心對比與OPTM優(yōu)勢

  1. 技術(shù)差異化

    • OPTM系列:基于分光干涉法,結(jié)合顯微光學(xué)系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)反射率分析,支持超薄膜(1nm)與復(fù)雜多層結(jié)構(gòu),技術(shù)解決透明基板干擾。

    • Smart膜厚儀:側(cè)重便攜性與快速篩查,適用于常規(guī)單層膜厚測量,但精度與功能擴(kuò)展性不及OPTM系列。

  2. 應(yīng)用場景

    • OPTM適用于研發(fā)(R&D)與高精度QC,如半導(dǎo)體晶圓、光學(xué)濾光片;Smart膜厚儀更適合產(chǎn)線快速抽檢。

  3. 性價(jià)比優(yōu)勢:OPTM以中型設(shè)備成本提供媲美橢偏儀的精度,且操作門檻更低,軟件內(nèi)置NIST校準(zhǔn)追溯,確保數(shù)據(jù)可靠性。



日本Otsuka大塚nanoSAQLA納米粒子徑測試

特長

● 1臺便可實(shí)再5個(gè)樣品的連續(xù)測量

實(shí)現(xiàn)了在沒有自動(dòng)取樣器的情況下難以連續(xù)測量的多個(gè)樣品

可以改變每個(gè)樣品的條件進(jìn)行測量

● 可以對應(yīng)從稀薄到濃厚的樣品

● 標(biāo)準(zhǔn)測量時(shí)間1分的高度測量

自動(dòng)調(diào)整從濃厚系到稀薄系樣品的測量位置,實(shí)現(xiàn)約1分鐘的高速測量

● 配備簡單測量功能(點(diǎn)擊一鍵即可開始測量)

沒有任何復(fù)雜的操作,簡單易懂的軟件

● 因?yàn)槊總€(gè)樣品槽都是獨(dú)立的,沒有接觸污染的風(fēng)險(xiǎn)。

● 搭載溫度梯度功能


測量范圍(理論值)

● 粒徑0.6nm~10μm

● 濃度范圍 0.00001~40%

● 溫度范圍0~90℃*


規(guī)格

型號多檢體納米粒徑測量系統(tǒng)
測量原理動(dòng)態(tài)光散射法(光子相關(guān)法)
光源高功率半導(dǎo)體激光(660nm、70mW) *1
檢出器高感度APD
連續(xù)測量最多5個(gè)樣品
測量范圍0.6nm ~ 10μm
濃度范圍0.00001 ~ 40% *2
溫度范圍0 ~ 90℃ (具備溫度梯度功能) *3
樣品容量四面透光比色皿:1.2mL~、微量比色皿:20μL~
尺寸W240 X D480 X   H375 mm
電壓220V 50/60Hz、250VA
重量約18 kg
軟件平均粒徑解析(累積法解析)
粒徑分布解析
(Marquardt法/Contin法/NNLS/Unimodal法)
粒度分布重疊
逆相關(guān)數(shù) 殘差Plot
粒徑監(jiān)測
粒徑表示范圍 (0.1 ~ 106 nm)
分子量計(jì)算機(jī)能
21 CFR Part11對應(yīng)*4
選配微量樣品池(20μL開始対應(yīng))、熒光濾光片

*1 本設(shè)備劃分在激光安全基準(zhǔn)(JIS C 6802)的等級內(nèi)。

*2 Latex120nm:0.00001 ~ 10%、牛黃膽酸:~40%

*3 標(biāo)準(zhǔn)glass cell的批量測量的情況。
     一次性cell或連續(xù)測量時(shí), 15 ~ 40℃ (不對應(yīng)溫度梯度)

*4 選配功能


測量示例

不同溶劑的5個(gè)樣品連續(xù)測量

日本Otsuka大塚nanoSAQLA納米粒子徑測試

溫度梯度機(jī)能使用的測定

日本Otsuka大塚nanoSAQLA納米粒子徑測試

可對應(yīng)寬泛粒徑的范圍的測量

日本Otsuka大塚nanoSAQLA納米粒子徑測試


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